Компания VFIBRE была основана в апреле 2008 года в Китае. На сегодняшний день компания является всемирноизвестным поставщиком широкого класса волоконно-оптических компонентов. Производственные силы VFIBRE позволяют удовлетворять возрастающие критические требования клиентов ко многим характеристикам волоконно-оптических компонентов, таким как малые вносимые потери, высокая надежность и т.д.
VFIBRE предоставляет выбор регулируемых и фиксированных аттенюаторов, адаптеров с FC/PC, FC/APC коннекторами, гибридных адаптеров и т.д.
Продукция компании VFIBRE включают мултиплексорные модули с различным числом каналов.
VFIBRE является производителем коллиматоров на 880 и 1064 нм, оптоволоконных зеркал на 1310, 1480 и 1550 нм, а также фарадеевских зеркал на 1310 и 1550 нм.
VFIBRE предлагает широкий выбор различных типов волоконных Брэгговских решеток.
VFIBRE также предлагает выбор таких типов оптических изоляторов, как нечувствительные к поляризации, со свободным пространством, пигтелированные, в сборке.
В каталоге продукции VFIBRE содержатся чувствительные и нечувствительные к поляризации оптические циркуляторы с 3 и 4 портами.
VFIBRE изготавливает такие типы патч-кордов, как одномодовые, с сохранением поляризации, с защитой от влаги, а также с различными видами коннекторов.
Каталог VFIBRE включает лазерные диоды-бабочки, пигтелированные лазерные диоды, а также универсальные и пигтелированные PIN фотодиоды на основе InGaAs.
Компания INSCIENCE помогает своим заказчикам решать любые вопросы и потребности по продукции VFIBRE на территории РФ
Спектроскопические методы, основанные на использовании лазерных источников, имеют большой потенциал для выявления и мониторинга компонентов в газовой фазе. Высокая чувствительность и селективность лазера позволяет использовать их для количественной оценки атомов и молекул в образце. Квантово-каскадные лазеры, излучающие в области среднего ИК диапазона, обеспечивают высокое разрешение и позволяют идентифицировать спектр молекул в газовых образцах и в парах воды.
Тонкие пленки используются в современных высокотехнологичных полупроводниковых структурах, микроэлектронике, матричных приемниках и, конечно, в оптике. Развитие знаний о свойствах материалов позволило науке совершить настоящий прорыв. Конечное применение тонкопленочных структур может быть разнообразным, но постоянной остается необходимость точного контроля толщины каждого слоя в процессе эпитаксиального роста. Толщина пленки обычно находится в диапазоне от 1 нм до 100 мкм.
Трехфотонная микроскопия – усовершенствованный метод двухфотонной микроскопии, в котором используется не двух-, а трехфотонное возбуждение в диапазоне 1300 – 1700 нм. Увеличение длины волны возбуждающего лазерного излучения до 1700 нм позволяет сократить рассеяние и поглощение в тканях, ограничивающих глубину поля зрения, однако методы компенсации дисперсии в многофотонной микроскопии по-прежнему остаются актуальной темой исследований в современной фотонике.
Лазерно-искровая эмиссионная спектроскопия (ЛИЭС) – один из типов атомно-эмиссионного спектрального анализа. Методом ЛИЭС изучаются спектры плазмы лазерного пробоя (лазерной искры) в анализе твердотельных образцов, жидкостей, газовых сред, взвешенной пыли и аэрозолей.
Изучение явления поверхностного плазменного резонанса (ППР) стало ключом к созданию множества сенсорных систем для исследования образования и диссоциации как низкомолекулярных соединений, так и макромолекул.
В последнее время во многих применения все чаще используют CO2 лазеры с высокочастотной накачкой. Данный факт обусловлен высокой производительностью, долговечностью и безопасностью таких лазеров...
г. Санкт-Петербург, Коломяжский проспект, 33 корпус 2